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齊魯工業(yè)大學(xué)

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上海電力大學(xué)2025研究生復試科目考試大綱:集成電路設計基礎

時(shí)間:2025-02-12     編輯:考研招生在線(xiàn)

課程名稱(chēng) 集成電路設計基礎

參考書(shū)目

1. 李偉華,VLSI設計基礎(第三版),北京:電子工業(yè)出版社,2013.6。

2. R· Jacob Baker,CMOS電路設計、布局與仿真(第三版),北京 :人民郵電出版社,2014

3. 郝躍,微電子概論(第2版),北京:電子工業(yè)出版社,2011.6。

復習的總體要求

本課程以硅集成電路為基礎,要求全面掌握有關(guān)集成電路設計的專(zhuān)業(yè)基礎知識,重點(diǎn)是集成電路設計概論、MOS器件原理與特性、CMOS邏輯部件、MOS集成電路制造工藝基礎、集成電路設計與工藝接口及版圖設計基礎、晶體管規則陣列設計、集成電路版圖設計、單元庫設計技術(shù)、常用微處理器單元、集成電路測試技術(shù)與可測試性技術(shù)、模擬單元與變換電路。

主要復習內容

一、集成電路設計概論

集成電路發(fā)展歷程、分類(lèi)、設計方法、主流制造技術(shù)、設計開(kāi)發(fā)主流程、常用術(shù)語(yǔ)及概念。

二、MOS器件原理與特性

MOS場(chǎng)效應晶體管的工作原理、電特性、模型和基本模型參數、MOS器件技術(shù)的發(fā)展與挑戰。

三、CMOS邏輯部件

CMOS倒相器設計方法、常見(jiàn)CMOS邏輯門(mén)的原理與設計方法。

四、MOS集成電路制造工藝基礎

集成電路工藝環(huán)境、集成電路基本加工工藝、CMOS基本工藝流程。

五、集成電路設計與工藝接口及版圖設計基礎

設計與工藝接口問(wèn)題及工藝對設計的制約、版圖設計中電學(xué)設計規則與幾何設計規則的基礎、工藝檢查與監控。

六、晶體管規則陣列設計

全NMOS結構的ROM電路設計及版圖、MOS晶體管開(kāi)關(guān)邏輯電路及應用、PLA電路設計及應用、門(mén)陣列電路和版圖設計。

七、單元庫設計技術(shù)

單元庫概念、常見(jiàn)標準單元設計(反相器、輸入、輸出單元)。

八、常用微處理器單元

常用微處理器單元的電路圖及工作原理。

九、集成電路測試技術(shù)與可測試性技術(shù)

集成電路故障模型、測試矢量生成、可測試性技術(shù)概念。

十、模擬單元與變換電路

模擬集成電路基本單元、基本偏置電路、放大電路。

原標題:上海電力大學(xué)2025年招收攻讀碩士學(xué)位研究生招生簡(jiǎn)章、目錄簡(jiǎn)介及考試大綱

文章來(lái)源:https://xxgk.shiep.edu.cn/e6/68/c525a255592/page.htm

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